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全反射X射線熒光光譜儀(TXRF)組成結(jié)構(gòu)

全反射X射線熒光光譜儀(TXRF)主要包括:X射線源、光路系統(tǒng)、進(jìn)樣系統(tǒng)、探測(cè)器、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)及其他附件,下文主要介紹前四部分。 一、X射線源:由高壓發(fā)生器及射線管組成。提供初級(jí)X射線,對(duì)樣品中待測(cè)元素進(jìn)行激發(fā)得到X射線熒光,其強(qiáng)度正比于初級(jí)X射線的強(qiáng)度。通常,XRD或XRF發(fā)生器便可滿足TXRF的需求,高壓可達(dá)到80kV、電流可達(dá)80mA、整體功率可達(dá)3kW或以上;輸入穩(wěn)定性一般<10%,輸出穩(wěn)定性<0.01%。 目前商用TXRF所用X射線管多為Mo或W靶,或是混合靶材,如GNR的TX 2000全反射X射線熒光光譜儀提供Mo/W混合靶材。 二、光路系統(tǒng):為滿足TXRF應(yīng)用需求(入射角、能量分布等),需進(jìn)一步對(duì)初級(jí)X射線的幾何形狀和光譜分布進(jìn)行調(diào)節(jié),主要有光闌、濾波器、準(zhǔn)直狹縫、單色器等。 初級(jí)X射線具有一定發(fā)散角,使用準(zhǔn)直狹縫即可完成對(duì)幾何形狀的調(diào)整。 射線管發(fā)射連續(xù)譜帶中的高能光子激發(fā)效率低于低能光子,且低能光子的全反射臨界角大于高能光子。因此,在滿足低能光子全反射條件下,連續(xù)光譜中的高能光子則不滿足全反射條件,背景大幅提高,需要進(jìn)一步濾除高能光子,通常采用濾波器及單色器來(lái)實(shí)現(xiàn)。 常用濾波器多采用全反射原理,即低能光子全反射而高能光子發(fā)生散射或吸收,進(jìn)而達(dá)到濾波目的,通常有單全反射及雙全反射體之分。 眾所周知,單色光激發(fā)是全反射理想的情況,但僅依靠濾波器等無(wú)法實(shí)現(xiàn)單色的目的,因此,采用布拉格反射體的單色器及多種技術(shù)結(jié)合的手段在目前商用儀器中頗為常見(jiàn)。GNR的TX 2000及HORIZON兩款全反射X射線熒光光譜儀均可提供雙全反射光路、多層Si/W單色器(TX 2000還可實(shí)現(xiàn)TXRF及常規(guī)XRF的切換)。 三、進(jìn)樣系統(tǒng):提供樣品載體,滿足全反射條件、完成自動(dòng)進(jìn)樣操作,多為石英玻璃、有機(jī)玻璃等。 四、探測(cè)器:作為數(shù)據(jù)讀出的核心部件,需要有較高的能量分辨率、較小的熱效應(yīng)等特性,主要有半導(dǎo)體探測(cè)器、硅漂移探測(cè)器及位敏探測(cè)器,目前商用儀器多使用硅漂移探測(cè)器(SDD),GNR即采用半導(dǎo)體制冷的SDD探測(cè)器。 意大利GNR公司是一家老牌的歐洲光譜儀生產(chǎn)商,其X射線產(chǎn)品線誕生于1966年,經(jīng)過(guò)半個(gè)多世紀(jì)的開(kāi)發(fā)和研究,該產(chǎn)品線已經(jīng)擁有眾多型號(hào)滿足多個(gè)行業(yè)的分析需求。 X射線衍射儀(XRD)可測(cè)試粉末、薄膜等樣品的晶體結(jié)構(gòu)等指標(biāo),多應(yīng)用于分子結(jié)構(gòu)分析及金屬相變研究;而全反射X熒光光譜儀(TXRF)的檢測(cè)限已達(dá)到皮克級(jí)別,其非破壞性分析特點(diǎn)應(yīng)用在痕量元素分析中,涉及環(huán)境、醫(yī)藥、半導(dǎo)體、核工業(yè)、石油化工等行業(yè);為迎合工業(yè)市場(chǎng)需求而設(shè)計(jì)制造的專用殘余應(yīng)力分析儀、殘余奧氏體分析儀,近年來(lái)被廣泛應(yīng)用在高端材料檢測(cè)領(lǐng)域,其操作的便捷性頗受行業(yè)青睞。

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全反射X射線熒光光譜儀(TXRF)原理簡(jiǎn)述

X射線熒光(XRF)是當(dāng)原級(jí)X射線照射樣品時(shí),受激原子內(nèi)層電子產(chǎn)生能級(jí)躍遷所發(fā)射的特征二次X射線。該二次X射線的能量及強(qiáng)度可被探測(cè),與樣品內(nèi)待測(cè)元素的含量相關(guān),此為XRF光譜儀的理論依據(jù)。 根據(jù)分光系統(tǒng)的不同,XRF光譜儀主要有波長(zhǎng)色散型(WDXRF)和能量色散型(EDXRF)兩種,二者結(jié)構(gòu)示意如下圖: 自上世紀(jì)40年代XRF光譜儀誕生,作為元素光譜分析技術(shù)的重要分支,在冶金、地質(zhì)、礦物、環(huán)境等領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用。但常規(guī)XRF光譜儀并不適于痕量元素的檢測(cè),而且復(fù)雜多變的基體效應(yīng)導(dǎo)致系統(tǒng)誤差較大。目前,多采用數(shù)學(xué)校正、基體分離等手段以克服這些缺點(diǎn)。 在上世紀(jì)70年代,出現(xiàn)了將全反射現(xiàn)象應(yīng)用于XRF分析的技術(shù),即將少量樣品置于平滑的全反射面上進(jìn)行檢測(cè),稱為全反射X射線熒光(TXRF)。如下圖: 由上圖可以看出,EDXRF中X射線的出入射角度通常約為40o,分析深度通常發(fā)生在近表層100μm左右,有較強(qiáng)的背景及基體影響;TXRF為EDXRF的變種,其入射角度<0.1o,分析深度通常<1μm,原級(jí)束幾乎被全反射。 通常,僅需將樣品溶液或懸濁液置于支撐的光學(xué)平面上(如石英玻璃),蒸干后,殘留物上機(jī)檢測(cè)。因平面的高反射率,載體的光譜背景幾乎被消除;少量的殘留物所形成的薄層樣品基體效應(yīng)很小,具有以下幾點(diǎn)重要的優(yōu)勢(shì): 1/TXRF可不使用標(biāo)準(zhǔn)曲線,僅用內(nèi)標(biāo)法便完成定量分析; 2/具有出色的檢出能力,低至10(-7)~10(-12)g; 3/微量樣品中痕量元素的檢測(cè)。 意大利GNR公司是一家老牌歐洲光譜儀生產(chǎn)商,其X射線產(chǎn)品線誕生于1966年,經(jīng)過(guò)半個(gè)多世紀(jì)的技術(shù)開(kāi)發(fā)和研究,該產(chǎn)品線已經(jīng)擁有眾多型號(hào)滿足多個(gè)行業(yè)的分析需求。X射線衍射儀(XRD)可測(cè)試粉末、薄膜等樣品的晶體結(jié)構(gòu)、殘余奧氏體、殘余應(yīng)力等指標(biāo),多應(yīng)用于分子結(jié)構(gòu)分析及金屬相變研究;而全反射X熒光光譜儀(TXRF)的檢測(cè)限已達(dá)到皮克級(jí)別,其非破壞性分析特點(diǎn)應(yīng)用在痕量元素分析中,涉及環(huán)境、醫(yī)藥、半導(dǎo)體、核工業(yè)、石油化工等行業(yè)。

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TXRF檢測(cè)河水中的元素含量

水質(zhì)分析對(duì)水資源保護(hù)、合理開(kāi)發(fā)及污染處理等方面有著重要作用。常見(jiàn)的檢測(cè)手段包括ICP-MS、ICP-OES、AAS、AFS等。AFS、AAS一次只能測(cè)定一種元素,檢測(cè)多個(gè)元素多采用 ICP-OES或 ICP-MS法,但二者有著較為嚴(yán)重的基體、光譜及質(zhì)譜干擾。因此,找到一種可兼顧檢測(cè)成本、檢測(cè)效率、干擾小的檢測(cè)方法顯得尤為重要。 Horizon 全反射X射線熒光光譜儀可有效解決上述問(wèn)題,使用內(nèi)標(biāo)及內(nèi)置曲線避免基體效應(yīng),同時(shí)元素檢出限低,測(cè)量簡(jiǎn)單快速。

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TXRF對(duì)水樣、煙葉、污泥的檢測(cè)應(yīng)用

TXRF是一種能量色散X射線熒光(EDXRF),其中X射線以很小的入射角照射以薄層形式沉積在樣品臺(tái)上的樣品,進(jìn)而產(chǎn)生全反射效應(yīng)。 樣品應(yīng)以液體/懸濁液形式沉積在載體(樣品臺(tái))上,然后干燥,以便僅留下較薄的薄層。如果樣品為粉末,則必須將其溶解或制成懸濁液。無(wú)論樣品類型,都可以通過(guò)添加內(nèi)標(biāo)元素(即原始樣品中不存在的元素(通常是Ga、Sc或Co)來(lái)進(jìn)行定量分析。 根據(jù)樣品的不同,可以直接進(jìn)行分析,也可以在前處理之后進(jìn)行分析,例如稀釋、消解、灰化、在線富集等。在許多情況下,正確的樣品制備有助于降低LOD和準(zhǔn)確定量。

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空氣顆粒物(PM)濾膜檢測(cè)--- X射線駐波(XSW)及全反射X射線熒光(TXRF)法

此項(xiàng)工作是對(duì)此前介紹的空氣顆粒物(PM)濾膜檢測(cè)方法的改進(jìn)。用一種新型專用實(shí)驗(yàn)室儀器實(shí)現(xiàn)空氣顆粒物(PM)濾膜的X射線駐波(XSW)及全反射X射線熒光(TXRF)檢測(cè)。同時(shí)進(jìn)行XSW和TXRF檢測(cè)的主要優(yōu)點(diǎn)是可以區(qū)分樣品的性質(zhì):小液滴干燥殘留物、薄膜樣品或大塊樣品;另一方面,它選擇合適的全反射角進(jìn)行TXRF測(cè)量。爾后,更換X射線源以精確檢測(cè)更輕及更重的元素(例如,X射線管陽(yáng)極由Mo改為Cu)。本研究的目的是為空氣顆粒物(PM)濾膜的定量分析方法奠定理論基礎(chǔ),通過(guò)外標(biāo)法手段提高精確度和效率。所提出和探討的理論模型表明,空氣顆粒物(PM)濾膜可以看作是薄膜樣品。在實(shí)驗(yàn)室中制備一組參考樣品,用于繪制校準(zhǔn)曲線。結(jié)果表明,本文提出的空氣顆粒物(PM)濾膜定量檢測(cè)方法經(jīng)濟(jì)可靠、無(wú)需對(duì)濾膜進(jìn)行消解即可進(jìn)行定量分析,利用XSW方法提高了TXRF分析的準(zhǔn)確度。

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TXRF檢測(cè)潤(rùn)滑油中K、Ca、Ti、Cr、Mn、Fe、Ni、Cu、Zn、Pb等十種元素

高沸點(diǎn)石油化工產(chǎn)品及其衍生物中痕量元素的檢測(cè)是一項(xiàng)挑戰(zhàn)性工作,目前檢測(cè)手段主要為AAS、ICP-OES、EDXRF等。 樣品測(cè)量結(jié)果與樣品前處理息息相關(guān)。前處理方法包括稀釋樣品,灰化法分解樣品,濕法分解樣品等。但是這些前處理手段都有其不足之處,如高溫易揮發(fā)元素?fù)p失、耗時(shí)、使用大量的酸易污染等。 溶劑稀釋是一種快速、簡(jiǎn)單的方法,但是稀釋樣品,由于基體效應(yīng)等因素很容易造成測(cè)量結(jié)果誤差過(guò)大,并且由于樣品的稀釋,容易導(dǎo)致樣品中本來(lái)就含量很低的目標(biāo)元素低于儀器的檢出限,從而造成該元素?zé)o法檢測(cè)。因此,找到一種兼顧檢出能力且前處理簡(jiǎn)單的檢測(cè)方法變得猶為重要。

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TXRF檢測(cè)固廢焚燒物中元素含量及前處理方法比較

固體廢棄物(簡(jiǎn)稱固廢)指生產(chǎn)、生活及其他活動(dòng)中產(chǎn)生的固態(tài)、半固態(tài)廢棄物,包括生活垃圾、工業(yè)、農(nóng)業(yè)廢棄物等。重金屬是固體廢棄物中的污染成分之一,無(wú)論工業(yè)廢棄物,還是生活垃圾,重金屬污染都是不容忽視的因素。與有機(jī)污染物相比,重金屬不易降解、長(zhǎng)期滯留于環(huán)境、并通過(guò)食物鏈富集,對(duì)人體健康產(chǎn)生嚴(yán)重危害,因此,加強(qiáng)固體廢棄物重金屬的檢測(cè)意義重大。

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TXRF檢測(cè)大米標(biāo)物中元素含量及前處理方法比較

大米是我們?nèi)粘I钪谐R?jiàn)的主食主要糧食。隨著工業(yè)化、城市化的發(fā)展,城市及郊區(qū)的土壤成為重金屬的主要累積場(chǎng)所,土壤中的重金屬可通過(guò)“土壤-植物-人”的途徑進(jìn)入人體,對(duì)人體健康產(chǎn)生潛在威脅。如砷(As)、鎘(Cd)可引發(fā)人類癌癥,已引起社會(huì)廣泛關(guān)注!禛B 2762 食品安全國(guó)家標(biāo)準(zhǔn) 食品中污染物限量》對(duì)大米中重金屬元素做出了嚴(yán)格的限量要求。 檢測(cè)手段包括ICP-MS、AAS、AFS等。其中, AFS、AAS一次只能測(cè)定一種元素,檢測(cè)多個(gè)元素多采用 ICP-OES或 ICP-MS法。但二者有著較為嚴(yán)重的基體、光譜及質(zhì)譜干擾。因此,找到一種可兼顧檢測(cè)效率、干擾小的檢測(cè)方法顯得尤為重要。

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全反射X熒光法(TXRF)測(cè)定醬油中的痕量元素【EN】

醬油是東亞和東南亞地區(qū)常見(jiàn)的烹飪佐料,具有比較復(fù)雜的基體,包括高鹽分基質(zhì)(NaCl高達(dá)15%)和其他相關(guān)15%的有機(jī)組分。在之前的文獻(xiàn)中,并無(wú)此類樣品中微量元素測(cè)定的方法,同時(shí)也沒(méi)有提出全反射X射線熒光(TXRF)的檢測(cè)手段。 本文建立了一個(gè)需要極少樣品量處理醬油樣品的TXRF方法,適用于醬油食用的過(guò)程控制和風(fēng)險(xiǎn)評(píng)估,開(kāi)發(fā)出消化(HNO3/H2O2)加稀釋(1:5w/w)的前處理方法,將其應(yīng)用于來(lái)自中國(guó)的六種醬油樣品,并將結(jié)果與ICP-MS數(shù)據(jù)進(jìn)行比較。經(jīng)驗(yàn)證,此方法可有效測(cè)試如下六種元素:Cu/Fe/Mn/Rb/Sr/Zn,同時(shí)評(píng)估了僅經(jīng)過(guò)稀釋處理后的結(jié)果,平均偏差僅為5%。綜上,樣品經(jīng)過(guò)消化處理后可得到較高準(zhǔn)確的數(shù)據(jù),而僅經(jīng)過(guò)稀釋(1:5w/w)處理的手段適合于大多數(shù)樣品。關(guān)于TXRF處理能力,無(wú)論是消化+稀釋處理或是僅稀釋處理,檢測(cè)限通常低于0.5mg/kg。因此,本文所報(bào)告的方法適用于醬油食用的質(zhì)量保證/質(zhì)量控制過(guò)程和風(fēng)險(xiǎn)評(píng)估。

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全反射X熒光法(TXRF)用于核材料的表征【EN】

全反射X射線熒光技術(shù)(TXRF)是能量色散型X射線熒光(EDXRF)技術(shù)的高級(jí)變體,是一種相對(duì)較新的材料表征技術(shù)。與EDXRF相比,TXRF的幾何改進(jìn)導(dǎo)致檢測(cè)極限提高了幾個(gè)數(shù)量級(jí)。 TXRF主要用于三類應(yīng)用:痕量元素分析,微觀分析和深度剖析。 TXRF吸引力的特點(diǎn)是其在核科學(xué)與技術(shù)領(lǐng)域的應(yīng)用,因?yàn)榉治鏊璧臉悠妨糠浅I,所以產(chǎn)生的放射性廢物少,工作人員接觸的劑量也小。此外,低檢測(cè)限、多元素分析能力以及金屬和非金屬元素的分析使得這種技術(shù)對(duì)于核材料的表征具有很大優(yōu)勢(shì);谏鲜鎏攸c(diǎn),印度巴巴原子研究中心(BARC) 燃料化學(xué)部門(mén)于2003年安裝TXRF光譜儀,至今已經(jīng)有多項(xiàng)研究使用此儀器對(duì)不同的核材料進(jìn)行了表征。

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